硅胶 & 胶体氧化铝抛光悬浮液

科密特胶体二氧化硅和氧化铝悬浮液结合使用化学机械抛光作用，试样表面不会出现变形。这是通过使磨料颗粒的混合物分散在整个化学腐蚀性液体载体中而产生的。其粒径通常在0.05微米到1微米之间，碱性液体pH值稳定在9.5，酸性液体pH值为3-3.5。还可用于陶瓷、复合材料、软金属等材料的最终抛光。

科密特胶体氧化铝

科密特胶体氧化铝

这是一种酸性分散胶体氧化铝，pH值在3到3.5之间。它可用于在诸如 :锗，硅，蓝宝石和碳化硅的材料上提供化学机械抛光作用。还可用于纯金属，对镍、钨铜合金、钢和铝进行低散射处理。可用于大多数的常见研磨器和抛光垫，但最好使用聚氨酯和短起绒抛光布。使用纯胶体氧化铝，或按1：1及以上比例 去离子水稀释的胶体氧化铝。

特殊用途的铝质悬浮液

微米 使用 粒径 编号
0-1 钢 & 硬金属 1 L 600711
0-0.7 半硬金属 1 L 600712
0-0.3 软金属 1 L 600713

氧化铝粉用于大多数材料抛光

微米 使用 粒径 编号
Gamma 0.04 铜、铅、铝等软金属的超精加工 1kg 600251
Alpha 0.3 铜合金、镍、黄铜、青铜、铝的最终抛光 1kg 600252
Alpha 1.0 所有金属的精细预抛 1kg 600253

科密特胶体二氧化硅

在陶瓷和矿物中，胶体二氧化硅电化学侵蚀表面，在样品表面形成薄的反应层。然后可以通过布或磨料的机械作用除去该反应层。与直接机械磨料抛光相比，胶体二氧化硅的涂饰效果要好得多。化学反应是放热的，因此可以通过升高温度来增加这种作用。这可以通过增加抛光压力来实现。它可用于聚氨酯，短绒布和致密的低绒毛丝。使用纯胶体氧化铝，或按1：1及以上比例去离子水稀释的胶体二氧化硅。

在实际操作过程中，将抛光垫用蒸馏水打湿，然后将悬浮液缓慢滴或喷洒在抛光垫上。最后，在抛光结束前的10秒左右，加水冲净静电作用下吸附在样本上的细颗粒物。

科密特胶体二氧化硅

微米 使用 粒径 编号
0.06 最终抛光阶段 1 L 600261
0.06 最终抛光阶段 5 L 600199
0.06 最终抛光阶段 20 L 600202

Kemox SF - 经过处理的氧化铝悬浮液

  • 粒度、形状和硬度挑选过程极其严格， 以确保在更长的生命周期内最大化实现抛光性能
  • 优质的表面光洁度
  • 高切削率
  • 易于清洗
  • 使用寿命长
  • 低粘度，促进抛光材料的流动
产品 粒径 编号
Kemox SF 1 L 300207
3.8 L 300200
5 L 300199

经过处理的氧化铝悬浮液